光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法，除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术，综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中的硫化氢、氨、甲硫醇等VOC(挥发性有机物)，并利用了水与氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂(OH自由基)来氧化分解恶臭气体，改变臭气分子的物化特性，最终污染物质被活性氧分解成CO2、水和其它小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道，存在一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭去除臭的速率得到7至9个数量级的增加，即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程中受外界影响少，所有的产物对人体及空气无影响，不产生二次污染物。
光化学离(li)子降(jiang)解硫化氢、氨、甲硫醇
硫化氢
硫化氢的光(guang)化学反应(ying)如下：
O3+hv → O2+O
O+H20 → 2OH
O+O2 → O3
H2S+O3+hv → S2- +H2O+O2
氨
氨同(tong)样(yang)可以在光(guang)化学(xue)离子(zi)有害气体(ti)处理设备中得到(dao)较好的(de)(de)去除(chu)，发生(sheng)初级(ji)光(guang)化学(xue)离子(zi)反应后的(de)(de)分子(zi)或者自(zi)由基吸收辐射(she)后继续(xu)发生(sheng)化学(xue)变(bian)化，产生(sheng)的(de)(de)产物能(neng)够进(jin)一步参(can)与次级(ji)化学(xue)过(guo)程。
①触发反应
O3+hv+O2+O
O2+hv → O+O
NH3+hv →NH+2H
O3+OH- →HO2+O2-
HO2+O2—+H+
②传递过程
O+H2O → 2OH
O+O2 → O3
O2-+O3 →O3-+O2
O3-+H+ →HO3
2NH → N2+2H
③终止反应
2-NH+O+N2+H2O
甲硫醇
甲硫醇(chun)的(de)光化学离子反应和硫化氢的(de)类似(si)，同样是因为 HS- 结构型(xing)式的(de)破坏而失去臭味(wei)。
O3+hv → O2+O
O+H2O → 2OH
O+O2 → O3
HS-+O3+hv → S2-+OH+O2
光化(hua)学离子设备技术特色
◇ 光(guang)化学技(ji)术是一种(zhong)经济有(you)效的(de)实(shi)用技(ji)术：通常处理的(de)恶臭气体具有(you)量大、浓度低的(de)特点，极(ji)适合光(guang)化学反应这一低耗(hao)高效的(de)处理技(ji)术。
◇ 反应(ying)速(su)度(du)快，除臭效果优良，设备的(de)体积小，占地和空间(jian)小，尤其对(dui)于改造(zao)，增设的(de)情况。
◇ 设备运行稳定：设备内(nei)部无高(gao)温(wen)高(gao)压(ya)等特殊(shu)部件，耐腐蚀(shi)，运行安全稳定，开启后无需特别的保养管理。
◇ 设(she)备的维护工作量小(xiao)：光(guang)/氧反应过(guo)程受外部环(huan)境影(ying)响(xiang)甚(shen)小(xiao)，除(chu)臭(chou)效果可(ke)以(yi)较持续稳定，管路(lu)维护工作简单(dan)。
◇ 设备的核心部件——发射(she)管(guan)采用顶级品质的进口光(guang)源，可稳定、高(gao)效(xiao)的输出反应所需的短波(bo)光(guang)子能量，使(shi)用寿命(ming)长。
◇ 设备(bei)可设定(ding)就(jiu)地(di)手(shou)动控(kong)(kong)制、PLC 自动控(kong)(kong)制;设定(ding)设备(bei)的正常运(yun)行(xing)、经济运(yun)行(xing)模(mo)式(shi);提供(gong)远程传递运(yun)行(xing)信息与故障等信号。
光化学离子处理系统示意(yi)图
